A MONITORING SYSTEM BASED ON ETCHING OF METALS

Brazil

PATENT NO PI0913415
SERIAL NO

PI0913415

Stats

Importance

Loading Importance Indicators... loading....

Abstract

See full text

'sistema indicador e processo para proporcionar um sistema indicador' são reveladas composições, dispositivos e processos relacionados ao ataque de urna camada muito fina ou partículas finas de um metal para monitorar uma variedade de parâmetros tais como, tempo, temperatura, tempo-temperatura, descongelamento, congelamento, micro- ondas, umidade, radiação ionizante, esterilização e produtos químicos. estes dispositivos apresentam capacidade de produzir um período de indução longo e acentuado de uma mudança visual irreversível. os dispositivos são compostos de um indicador que compreende uma camada muito fina de um metal (por exemplo, filme de poliéster com uma camada de alumínio extremamente fina, por exemplo, cerca de cem angstrons) e um ativador, por exemplo, um reagente, tais como água, vapor de água, um ácido, uma base, agente oxidante ou seus precursores, que é capaz de reagir com o dito indicador. o indicador mantém sua opacidade e brilho metálico, por exemplo, acabamento tipo espelhado branco prateado de camada de alumínio por um período prolongado. o ativador destrói a camada indicadora, incluindo a camada de óxido formada naturalmente.

Loading the Abstract Image... loading....

First Claim

See full text

Family

Loading Family data... loading....

Patent Owner(s)

  • Owner owned or assignment not recorded

International Classification(s)

Inventor(s)

  • No Inventor to display

Cited Art Landscape

Load Citation